RUV2低浴比溢流染色機

臺灣東庚以及杭州東霖推出新改良型RUV2低浴比溢流染色機，專門針對短纖針織、混紡、高級全棉、Rayon等織物的特性而設計，是一種純溢流的染色技術，無須采用“電+空氣”模式來降低浴比。

該機具有新恒液比控制裝置，可提高染色質量的穩定性及降低染色缸差。新型獨特的雙向擺布裝置設計，可充分且平均地將布匹裝滿槽體，不浪費染槽空間，因此提高生產量。因布匹平均堆棧于布槽內，布匹的松弛度很均勻，不會局部擠壓，減少纏結，染后布面質量佳。

臺灣東庚公司改進的RUV2低浴比溢流染色機從設計上提高了染整廠生產的下布量，并實現了減少用水浴比，降低電、化學用品、能源的耗用量等目標，不僅符合目前的節能減排的要求，而且還能讓染整廠在能源成本上更具有競爭力。