新型專用噴砂機在中科院研制成功

　　中科院等離子體所在國家重大科學工程ＨＴ--７Ｕ裝置研制過程中，又開發了一項單元技術--鎧裝導體四槍專用噴砂機。近日進行的噴砂試驗表明，該噴砂機安全達到了使用要求，填補了國內這方面的空白。噴砂工藝目的在于對鎧裝導體表面進行粗糙化處理，以便在真空壓力浸漬后提高機械強度。采用單槍結構的噴砂機，每臺設備噴砂時需４人人工操作，并停止導體繞制。而這種有獨立知識產權的四槍專用噴砂機，有４個噴槍在線操作，可實現在線自動噴砂，完全解除了表面噴砂對導體繞制的影響，工作效率提高了３０％至４０％。不僅能節省人力，而且減少了粉塵污染。預計完成ＨＴ--７Ｕ裝置各種導體的繞制后，可節約費用近百萬元。